专利名称：一种超低应力高反射薄膜的制备方法专利类型：发明专利
发明人：刘华松,白金林,姜玉刚,王利栓,李子杨申请号：CN202010948566.2申请日：20200910公开号：CN112095081A公开日：20201218
摘要：本发明属于光学薄膜技术领域，公开了一种超低应力高反射薄膜的制备方法，该方法基于双离子束溅射沉积技术，通过改变辅助离子源的工艺参数和辅助离子源通入氩气、氧气的流量，可实现超低应力多层膜的制备。结果表明，本发明方法可以降低约70％的多层膜应力，同时又能够保证足够高的光学特性，并对光学薄膜元件的稳定制备具有重要的作用。
申请人：天津津航技术物理研究所
地址：300308 天津市东丽区空港经济区中环西路58号
国籍：CN
代理机构：中国兵器工业集团公司专利中心
代理人：刘二格
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