专利名称：低回损蚀刻衍射光栅波分复用器专利类型：发明专利发明人：盛钟延,何赛灵申请号：CN02159350.7申请日：20021223公开号：CN1420374A公开日：20030528
摘要：本发明公开了一种低回损蚀刻衍射光栅波分复用器。它包括输入波导，输出波导，蚀刻光栅，自由传播区域。输入波导和输出波导的入射点和出射点位于同一半径的圆上，而蚀刻光栅位于以2倍此圆半径为半径，且与此圆相内切的另一个圆上，蚀刻光栅的中心在两圆的切点上。蚀刻光栅的每一个反射齿面的朝向都由入射方向和出射方向确定，使入射光反射到同一个输出无像差点位置。输入位置和输出无像差点位置满足一个精确的关系，可以保证输入波导所在位置接受到最小的光回损。本发明可以更好的应用在波分复用系统中，它在最大限度提高回损性能的同时，与普通的减小回损的方法(如使用光隔离器)相比，没有附加任何的几何结构，制作工艺也没有改变，实现简单，成本不增加。
申请人：浙江大学
地址：310027 浙江省杭州市西湖区玉古路20号
国籍：CN
代理机构：杭州求是专利事务所有限公司
代理人：林怀禹
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