等离子体处理对聚四氟乙烯微孔薄膜界面粘结性能的影响

Ｖｏ１．２２　Ｎｏ．６　科技通报　第２２卷第６期　ＮＯＶ　２００６　ＢＵＬＬＥＴＩＮ　ＯＦ　ＳＣＩＥＮＣＥ　ＡＮＤ　ＴＥＣＨＮ０Ｌ０ＧＹ　２０ｏ６年ｌ１月　等离子体处理对聚四氟乙烯微孔薄膜界面　粘结性能的影响　俞巧珍　，郑　军ｚ　（１．嘉兴学院服装与艺术设计学院，浙江嘉兴３１４００１；２．浙江理工大学材料与纺织学院，杭州３１００１１）　摘要：以ＸＰＳ、动态接触角分析仪和扫描电镜等为手段，研究了不同条件下低温等离子体对聚四氟乙　烯微孔薄膜界面粘结性能的影响。结果表明：等离子体处理功率对薄膜界面粘结性能的影响．因等离子　体种类的不同而有明显的差别。等离子体处理时间对薄膜界面粘结性能的影响，因等离子体种类和处　理功率的不同而有一定的差别。不同的等离子体，对薄膜界面粘结性能的改善效果，因等离子体处理功　率的不同而有较明显的不同。　关键词：聚四氟乙烯微孔薄膜；等离子体；界面粘结性能；处理条件　中图分类号：ＴＱ３２５．１　文献标识码：Ａ　文章编号：１００１—７１　１９（２００６）０６—０８２２—０５　Ｉｎｆｌｕｅｎｃｅ　ｏｆ　Ｐｌａｓｍａ　Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ　ｏｎ　Ｂｏｎｄｉｎｇ　ｏｆ　ＰＴＦＥ　Ｍｉｃｒｏ－ｐｏｒｅ　Ｍｅｍｂｒａｎｅ　ＹＵ　Ｑｉａｏ—ｚｈｅｎ　，ＺＨＥＮＧ　Ｊｕｎ　（１．Ｄｉｖｉｓｉｏｎａｌ　Ｃｏｌｌｅｇｅ　ｏｆ　Ｃｌｏｔｈｉｎｇ　ａｎｄ　Ａｒｔ　Ｄｅｓｉｇｎ　Ｊｉａｘｉｎｇ　Ｃｏｌｌｅｇｅ，Ｚｈｅｊｉａｎｇ　Ｊｉａｘｉｎｇ　３　１４００　１，Ｃｈｉｎａ；２．Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ　ｏｆ　Ｍａｔｅｒｉａｌ　ａｎｄ　Ｔｅｘｔｉｌｅ，Ｚｈｅｊｉａｎｇ　Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ　ｏｆＳｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｈａｎｇｚｈｏｕ　３１００１１，Ｃｈｉｎａ）　Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｔｈｅ　ｉｎｆｌｕｅｎｃｅ　ｏｆ　ｌｏｗ　ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ　ｐｌａｓｍａ　ｔｒｅａｔｍｅｎｔ　ｕｎｄｅｒ　ｄｉｆｅｒｅｎｔ　ｃｏｎｄｉｔｉｏｎｓ　ｏｎ　ｔｈｅ　ｉｎｔｅｒｆａｃｉａｌ　ｂｏｎｄｉｎｇ　ｏｆ　ｆｒｒＦＥ　ｍｉｃｒｏ—ｐｏｒｅ　ｍｅｍｂｒａｎｅ　ｉｓ　ｓｔｕｄｉｅｄ　ｂｙ　ｕｓｉｎｇ　Ｘ—ｒａｙ　Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ（ｘＰｓ）ａｎｄ　ｄｙｎａｍｉｃ　ｃｏｎｔａｃｔ　ａｎｇｌｅ　ａｎａ—　ｌｙｚｅｒ　ａｎｄ　ＳＥＭ　ｅｔｃ　ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ．Ｔｈｅ　ｒｅｓｕｌｔｓ　ｓｈｏｗ　ｔｈａｔ　ｉｔ　ｉｓ　ｏｂｖｉｏｕｓ　ｔｈａｔ　ｔｈｅ　ｉｎｌｆｕｅｎｃｅ　ｏｆ　ｌｏｗ　ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ　ｐｌａｓｍａ　ｔｒｅａｔｍｅｎｔ　ｐｏｗｅｒ　ａｎｄ　ｔｉｍｅ　ｏｎ　ｔｈｅ　ｉｎｔｅｒｆａｃｉａｌ　ｂｏｎｄｉｎｇ　ｏｆ　ｆｒｒＦＥ　ｍｉｃｒｏ－ｐｏｒｅ　ｍｅｍｂｒａｎｅ，ｂｕｔ　ｉｔ　ｅｘｉｓｔ　ｓｏｍｅ　ｄｉｆｅｒｅｎｃｅ　ｂｅｔｗｅｅｎ　Ｎ２　ｐｌａｓｍａ　ａｎｄ　Ｏ２　ｐｌａｓｍａ．　Ｋｅｙ　ｗｏｒｄｓ：ｆｒｒＦＥ　ｍｉｃｒｏ—ｐｏｒｅ　ｍｅｍｂｒａｎｅ；ｐｌａｓｍａ；ｉｎｔｅｒｆａｃｉａｌ　ｂｏｎｄｉｎｇ；ｔｒｅａｔｍｅｎｔ　ｃｏｎｄｉｔｉｏｎ　聚四氟乙烯微孔薄膜具有稳定的化学性能．　滤料的理想薄膜材料Ｉ】－３１。但它极低的表面活性、　耐高温、耐腐蚀，突出的抗水性和疏油性等．对于　突出的不粘性使它很难与基体材料复合．限制了　高温、高湿、高腐蚀和含有有机液体的特殊气体．　它的应用。对聚四氟乙烯微孔薄膜进行表面处理　也有良好的过滤性，可广泛应用于冶金、化工、煤　以改善其复合材料的界面粘结性能，已成为复合　炭、水泥等行业的粉尘过滤，是制造耐高温复合　材料研究的重要课题之一，并已取得了一定的进　收稿日期：２００５—０４—２８　基金项目：嘉兴学院重点课题　作者简介：俞巧珍（１９６２一）．女，浙江东阳人，讲师，硕士，主要从事纺织复合材料的研究。　维普资讯 http://www.cqvip.com

第６期　俞巧珍等．等离子体处理对聚四氟乙烯微孔薄膜界面粘结性能的影响８２３　展１４　】。本文采用辉光放电低温等离子体对聚四氟　乙烯微孑Ｌ薄膜进行表面处理，研究了不同条件下　低温等离子体对聚四氟乙烯微孑Ｌ薄膜界面粘结　性能的影响。　１　实验材料与方法　１．１原料　聚四氟乙烯微孑Ｌ薄膜，浙江三星滤料有限公　司生产。　１．２低温等离子体处理　先用丙酮试剂清洗聚四氟乙烯微孑Ｌ薄膜．再　用蒸馏水冲洗３次。试样凉干后放入等离子体发　生器，并抽真空１０　ｍｉｎ，通入反应气体，调节真空　度到５０　Ｐａ，待气压稳定后打开电源放电处理样　。。　告　ｕＩＪ　看。　６　５　４　３　２　ｌ　０　品，处理完毕后将试样密闭保存备用。实验所用　反应气氛为Ｎ　和Ｏ　，由于设备无法精确调整反　应室的气体压强，所以固定压强为５０　Ｐａ．以反应　时间和功率为参数用等离子体对聚四氟乙烯微　孑Ｌ薄膜表面进行处理。实验所用的ＨＤ一１Ａ型等　离子体处理仪由常州世泰等离子体技术开发有　限公司生产，采用电容式耦合辉光放电产生低温　等离子体。　ｌ－３性能测定　对处理后的薄膜，先采用ＪＥＯＬ公司的ＪＳＭ　一５６ｌ０ＬＶ扫描电镜分析其表面形貌变化。用　ＤＣＡ一３２２型动态接触角分析仪（美国ＴＨＥ—　ＭＯＣＡＨＮ公司）采用Ｗｉｌｈｅｌｍｙ吊片法测定动态　接触角的变化。然后用常州广成新型塑料有限公　司生产的ＧＣＰＩ—Ａ型热塑性聚酰亚胺粘合剂，加　热到２００￣（２后．粘结到不锈钢片上．再参照国家　标准ＧＢ／Ｔ７ｌ２４一ｌ９８６．用ＹＧ０６５Ｈ电子强力机　对处理前后及不同的处理条件下．薄膜的剪切强　度进行了测试，夹距为１００　ｍｍ，拉伸速度为１００　ｍｍ／ｍｉｎ，样本容量为５。并用美国Ｐｅｋｉｎ　Ｅｌｍｅｒ公　司的ＰＨＩ５０００（３型Ｘ射线光电能谱仪，激发源为　Ａ１Ｋａ１．２的Ｘ射线对聚四氟乙烯微孑Ｌ薄膜改性　前后的表面进行ＸＰＳ测试，分析聚四氟乙烯微　孑Ｌ薄膜表面元素及其含量的变化。　２　结果与分析　２．１等离子处理功率对聚四氟乙烯微孔薄膜界　面粘结性能的影响　０　２Ｕ　４ｕ　６ｕ　Ｕ　ｌＩＪＵ　Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ　ｅｎｅｒｇｙ／Ｗ　●　图１　聚四氟乙烯微孔薄膜剪切强度与等离子体处　理功率的关系　Ｆｉｇ．１　Ｔｈｅ　ｒｅｌａｔｉｏｎｓｈｉｐ　ｂｅｔｗｅｅｎ　ｔｒｅａｔｍｅｎｔ　ｅｎｅｒｇｙ　ａｎｄ　ｓｈｅａｒｉｎｇ　ｓｔｒｅｎｇｔｈ　ｏｆ　ＰｒｒＦＥ　ｍｉｃｒｏ—ｐｏｒｅ　ｍｅｍｂｒａｎｅ　ｔｒｅａｔｅｄ　ｗｉｔｈ　ｐｌａｓｍａ　ｆｏｒ　８ｍｉｎ　材料剪切强度的高低是反映材料粘结性能　好坏的重要指标之一。图ｌ为聚四氟乙烯微孑Ｌ薄　膜在Ｎ　等离子体和Ｏ　等离子体中不同功率下　处理８　ｍｉｎ时，薄膜剪切强度与处理功率的关　系。从图中可以看到，未经等离子体处理的聚四　氟乙烯微孑Ｌ薄膜由于接触角太高，薄膜粘结强度　很低，在样品的取放过程中就发生脱落现象。所　用反应气体为Ｎ　时，当处理功率小于２０　Ｗ时，　薄膜剪切强度基本上为零，薄膜无法粘结制样。　这可能是低功率的Ｎ　等离子体处理，对薄膜表　面作用不大。当Ｎ，等离子体处理功率大于２０　Ｗ　后，随着功率的增加，聚四氟乙烯微孑Ｌ薄膜的剪　切强度也逐步提高。而Ｏ　等离子体功率从０　Ｗ　上升到４０　Ｗ时．薄膜的剪切强度逐渐升高：但　从４０　Ｗ上升到ｌｏｏ　Ｗ时薄膜的剪切强度却逐　渐下降。　薄膜表面接触角的大小直接反映粘结剂对　薄膜浸润作用的好坏及粘着功的大小，接触角越　小，粘结剂对薄膜浸润作用越好，粘着功越大。图　２（ａ）为聚四氟乙烯微孑Ｌ薄膜经Ｎ　等离子体处理　８　ｍｉｎ．薄膜表面接触角与等离子体功率的关系。　由图可见接触角随处理功率的增大而逐渐下降。　由界面粘结理论可推知：薄膜表面的浸润性得到　不断地改善，粘着功逐渐增大。图２（ｂ）为聚四氟　乙烯微孑Ｌ薄膜经Ｏ，等离子体处理８　ｍｉｎ，薄膜表　面接触角与等离子体功率的关系。当功率从０　Ｗ　上升到４０　Ｗ时．薄膜表面接触角随着处理功率　的升高而逐渐下降，功率为４０　Ｗ时接触角达到　最小值ｌｌ４．７。。功率从４０　Ｗ上升到１００　Ｗ时，　维普资讯 http://www.cqvip.com

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第６期　俞巧珍等．等离子体处理对聚四氟乙烯微孔薄膜界面粘结性能的影响８２５　１∞　９ｏ　磊８０　｝７０　呈６０　５０　茎４０　３０　２０　ｌ　１０　０　０　２０　４０　６０　８０　ｌｆｉＯ　Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ　ｅｎｅｒｇｙ／Ｗ　图４薄膜表面元素含量与等离子处理功率的关系　Ｆｉｇ，４Ｅｌｅｍｅｎｔ　ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ　ｉｎ　ｔｈｅ　ｓｕＦｆａｃｅ　ｏｆ　ＰＴＦＥ　ｍｉｃｒｏ—ｐｏｒｅ　ｍｅｍｂｒａｎｅ　ｔｒｅａｔｅｄ　ｗｉｔｈ　Ｎ２　ａｎｄ　Ｏ２　ｐｌａｓｍａ　ｆｏｒ　８ｍｉｎ　Ｉ　写　１　昌　ｇ１　Ｕ　。　３　Ｔ　。　ｅ，ｍ６ｎ　’　（ａ）Ｎ２　ｐｌａｓｍａ　Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ　ｔｉｍｅ／ｍｉｎ　（ｂ）Ｏ２　ｐｌａｓｍａ　图５　等离子体处理聚四氟乙烯微孔薄膜处理时间与　接触角的关系　Ｆｉｇ．５’ｒｈｅ　ｒｅｌａｔｉｏｎｓｈｉｐ　ｂｅｔｗｅｅｎ　ｔｒｅａｔｍｅｎｔ　ｔｉｍｅ　ａｎｄ　ｃｏｎｔａｃｔ　ａｎｇｌｅ　ｏｆ　ＰＩＦＥ　ｓｕｒｆａｃｅ　ｔｒｅａｔｅｄ　ｂｙ　ｐｌｓａｍａ　薄膜表面的浸润性明显改善，粘着功增加。这可　能是由于随着处理时间的增加，等离子体在聚四　氟乙烯薄膜表面引入的活性基团增加。等离子体　处理功率为４０　Ｗ时，薄膜的接触角并没有明显　的下降，处理８　ｍｉｎ后其接触角仍然高达　１３１．６。。表明只有在足够的能量条件下经过一定　的时间处理，薄膜表面的浸润性才会得到明显的　改善。　从图５（ｂ）中可以看到当０　等离子体处理功　率在４０　Ｗ时，随着处理时间的增加，聚四氟乙　烯微孔薄膜的接触角逐渐下降，表面浸润性提　高，在８　ｍｉｎ时效果最佳，接触角下降为ｌｌ４．７ｏ。　当功率在１００　Ｗ时，薄膜的接触角与处理时间　并没有明显的关系．接触角与未处理的聚四氟乙　烯微孔薄膜相比没有显著的变化　虽然处理时间的延长通常可以促进对薄膜　表面的浸润性改善，但不能无限制的延长处理时　间，因为等离子体对薄膜的破坏作用是非常显著　的。实验观察表明当０　等离子体的处理功率为　１００　Ｗ，处理时间延长到１４　ｍｉｎ时．经处理后的　薄膜表面产生了明显的孔洞，如图６所示。在接　触角的测试过程也发生了局部区域测试液体的　渗漏现象。　图６　ｏ　等离子体处理对聚四氟乙烯微孔薄膜的破坏　（１ｏｏ　Ｗ．１４　ｍｉｎ）　Ｆｉｇ．６　Ｔｈｅ　ｄｅｓｔｒｕｃｔｉｏｎ　ｏｆ　ＰＴＦＥ　ｍｉｃｒｏ—ｐｏｒｅ　ｍｅｍｂｒａｎｅ　ｔｒｅａｔｅｄ　ｗｉｔｈ　Ｏ２　ｐｌａｓｍａ（１００　Ｗ，１４　ｍｉｎ）　２．３等离子体种类对聚四氟乙烯微孔薄膜界面　粘结性能的影响　由图ｌ、图２、图３、图４和图５可以看出，　等离子体种类不同．对聚四氟乙烯微孔薄膜处理　后，薄膜表面的浸润性变化、剪切强度的改变情　况都是不一样的。所以不同种类的等离子体处理　聚四氟乙烯微孔薄膜．对其界面粘结性能的影响　也是不一样的。由图ｌ可见，当处理功率在０～６０　Ｗ范围内时．在相同的处理功率下．Ｏ，等离子体　的处理效果明显好于Ｎ　等离子体的处理效果，　而当处理功率在６０—１００　Ｗ时。Ｏ，等离子体的处　理效果却明显的差于Ｎ　等离子体的处理效果。　其中的原因前面已提到了一部分外，还可以从等　离子处理聚四氟乙烯微孔薄膜前及Ｎ，或Ｏ，等　离子体处理后聚四氟乙烯微孔薄膜的Ｃ　。谱图的　分析上得到解释。　图７为未处理前和Ｎ，、Ｏ，等离子体处理后　聚四氟乙烯微孔薄膜的Ｃ　谱图。各峰的归属情　况见表ｌ、表２和表３。从图７和表ｌ、表２和表３　可见，与未处理薄膜相比，０　等离子体处理后的　维普资讯 http://www.cqvip.com

８２６　科技通报　第２２卷　（ａ）ｕｎｔｒｅａｔｅｄ　（ｂ）ｔｒｅａｔｅｄ　ｗｉｔｈ　Ｏ２　ｐｌａｓｍａ　（ｃ）ｔｒｅａｔｅｄ　ｗｉｔｈ　Ｎ２　ｐｌａｓｍａ　图７等离子体处理前后聚四氟乙烯微孔薄膜的Ｃ　。谱图　Ｆｉｇ．７　ＣＩ　ｓｐｅｃｔｒｕｍ　ｏｆ　ＰｒｒＦＥ　ｍｉｃｒｏ－－ｐｏｒｅ　ｍｅｍｂｒａｎｅ　薄膜表面一ＯＨ、一Ｃ＝Ｏ含量都有增加，同时在　含量约增加了ｌ倍，２８８．４ｅＶ附近的一Ｃ＝Ｏ含量　变化不大．并且在２８７ｅＶ附近出现了新的谱带，　２８７ｅＶ附近也出现Ｃ—Ｏ—Ｃ的谱带，薄膜表面Ｃ　—Ｏ—Ｃ含量小于Ｎ，等离子体改性的薄膜。因此　Ｃ—Ｏ—Ｃ谱带。因此Ｎ，等离子体中的含Ｎ活性　粒子．在聚四氟乙烯微孔薄膜的等离子体处理过　程中只是起到了能量传递的作用，在薄膜表面促　聚四氟烯微孔薄膜经Ｏ　等离子体改性后粘结性　改善的原因主要是一Ｃ＝Ｏ和一ＯＨ含量的增以及　Ｃ—Ｏ—Ｃ的引入。经Ｎ　等离子体处理后的薄膜　表面Ｏ元素含量提高并不多，与未处理的聚四　氟乙烯微孔薄膜的相比，薄膜表面的Ｏ元素的　结合状态发生了明显的变化。２８６ｅＶ附近的一ＯＨ　进活性基团．如一ＯＨ和Ｃ一（）－一Ｃ等的引入。由于一　ＯＨ和Ｃ—Ｏ—Ｃ属亲水性基团，正是一ＯＨ和Ｃ—　Ｏ—Ｃ的引入，使薄膜的亲水性、粘结性能提高。　３　结　论　表ｌ　未处理聚四氟乙烯微孔膜Ｃ．　谱图数据　Ｔａｂｌｅ　ｌ　Ｃｋ　ｓｐｅｃｔｒｕｍ　ｄａｔａ　ｏｆＰＴＦＥ　ｍｉｃｒｏ－－ｐｏｒｅｍｅｍｂｒａｎｅ　低温等离子体处理条件的改变，对聚四氟乙　烯微孔薄膜界面粘结性能有明显的影响。　（１）等离子体处理功率对薄膜界面粘结性能　的影响．因等离子体种类的不同而有明显的差　别。随Ｎ　等离子体功率的提高，薄膜界面剪切强　表２　Ｎ　等离子体处理聚四氟乙烯微孔膜Ｃ．　谱图数据　（１００ｗ，８　ｍｉｎ）　Ｔａｂｌｅ　２　ＣＩ　ｓｐｅｃｔｒｕｍ　ｄａｔａ　ｏｆ咖ｍｉｃｒｏ－ｐｏｒｅ　ｍｅｍｂｒａｎｅ　ｔｅａｔｒｅｄ　ｗｉｔｈ　Ｎ２　ｐｌａｓｍａ　ａｔ　ｔｈｅ　ｅｎｅｒｇｙ　ｏｆ　１００Ｗ　ｆｏｒ　８　ｍｉｎ　度逐渐增加，在１００　Ｗ时剪切强度达最高值　Ｏ．４４　ＭＰａ；随Ｏ　等离子体功率的提高，薄膜界面　剪切强度先增加后降低，在４Ｏ　Ｗ时，薄膜的剪　切强度达到最高值０．４０　ＭＰａ：　（２）等离子体处理时间对薄膜界面粘结性能　的影响．因等离子体种类和处理功率的不同而有　一定的差别。当Ｎ　等离子体的处理功率为１００　Ｗ时．薄膜表面接触角随等离子体处理时间的增　表３　０　等离子体处理聚四氟乙烯微孔膜Ｃ　谱图数据　加而减小，处理８　ｍｉｎ后接触角从未处理时的　（１００ｗ，８　ｍｉｎ）　Ｔａｂｌｅ　３　ＣＩ　ｓｐｅｃｔｒｕｍ　ｄａｔａ　ｏｆ啪ｍｉｃｒｏ－ｐｏｒｅ　ｍｅｍｂｒａｎｅ　１４１．５０下降到９４．８ｏ。等离子体处理功率为４０　Ｗ　时．薄膜的接触角并没有明显的下降，处理８　ｍｉｎ　后其接触角仍然高达ｌ３１．６。。Ｏ　等离子体处理功　率在４Ｏ　Ｗ时．随着处理时间的增加，薄膜的接　触角逐渐下降，在８　ｍｉｎ时达最小值ｌｌ４．７。。当　功率在１００　Ｗ时，薄膜的接触角变化不大。　（下转第８４０页）　ｔｅａｔｅｄ　ｗｉｔｒｈ　Ｏ２　ｐｌｓｍａ　ａｔａ　ｔｈｅ　ｅｎｅｒｇｙ　ｏｆ　１００Ｗ　ｆｏｒ　８　ｍｉｎ　维普资讯 http://www.cqvip.com

科技通报　第２２卷　５　结　论　本文以公钥体制、私钥体制、数字签名技术、杂凑函数为基础，设计了一个双向认证的密码协议方　案。从以上讨论可以看出，这个方案避免了可信中心的瓶颈问题，同时实现了双方的身份认证与会话密　钥的协商，是一个安全的密码协议。　参考文献：　［１］Ｗ　Ｄｉｆｉｆｅ　ａｎｄ　Ｍ　Ｅ　Ｈｅｌｌｍａｎ．Ｎｅｗ　Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎｓ　ｉｎ　Ｃｒｙｐｔｏｇｒａｐｈｙ［Ｊ］．ＩＥＥＥ　Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ　ｏｎ　Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ　Ｔｈｅｏｒｙ，１９７６，２２（￣：６４４－６５４．　［２］Ｊｏｓｈｕａ　Ｄ，ＧＵＴｒＭＡＮ　Ｆ．Ｊａｖｉｅｒ　ＴＨＡＹＥＲ　Ｆ　ａｂｒｅｇａ　Ａｕｔｈｅｎｔｉｃａｔｉｏｎ　Ｔｅｓｔｓ［Ａ］．Ｉｎ：Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ，２０００　ＩＥＥＥ　Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ　ｏｎ　Ｓｅｃｕｒｉｔｙ　ａｎｄ　Ｐｒｉｖａｃｙ［Ｃ］．Ｏａｋｌａｎｄ　ＣＡ，２０００，５．　［３］Ｔ　Ｄｉｅｒｋｓ　ａｎｄ　Ｃ　Ａｌｌｅｎ．Ｔｈｅ　ＴＬＳ　ｐｒｏｔｏｃｏ１．ＲＦＣ　２２４６，１９９９，１．　［４］Ｊｏｎａｔｈａｎ　Ｃ．Ｈｅｒｚｏｇ［Ａ］．ｒｒｈｅ　Ｄｉｆｉｆｅ－－Ｈｅｌｌｍａｎ　Ｋｅｙ－－Ａｇｒｅｅｍｅｎｔ　Ｓｃｈｅｍｅ　ｉｎ　ｔｈｅ　ｔｒａｎｄ－－Ｓｐａｃｅ　Ｍｏｄｅ１．Ｉｎ：Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ，１６ｔｈ　ＩＥＥＥ　Ｃｏｍｐｕｔｅｒ　Ｓｅｃｕｒｉｔｙ　Ｆｏｕｎｄａｔｉｏｎｓ　Ｗｏｒｋｓｈｏｐ［Ｃ］．ＩＥＥＥＣＳ　Ｐｒｅｓｓ，２００３，６．　［５］Ｇｕｔｔｍａｎ　ＪＤ，Ｔｈａｙｅｒ　ＦＪ，Ｃａｒｌｓｏｎ　ＪＡ，Ｈｅｒｌｏｇ　ＪＣ，Ｒａｍｓｏｌｅｌｌ　ＪＤ，Ｓｎｉｆｆｅｎ　ＢＴ．Ｔｒｕｓｔ　Ｍａｎａｇｅｍｅｎｔ　ｉｎ　Ｓｔｒａｎｄ　Ｓｐａｃｅｓ：Ａ　Ｒｅｌｙ－－Ｇｕａｒ－　ａｎｔｅｅ　Ｍｅｔｈｏｄ［Ａ］．Ｉｎ：Ｅｕｒｏｐｅａｎ　Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ　ｏｎ　Ｐｒｏｇｒａｍｍｉｎｇ［Ｃ］．２００４，４．　［６］　Ｊｏｓｈｕａ　Ｄ．Ｇｕｔｔｍａｎ　ａｎｄ　Ｆ　Ｊａｖｉｅｒ　Ｔｈａｙｅｒ　Ｆ’ａｂｒｅｇａ　Ｓｔｒａｎｄ　ｓｐａｃｅｓ：Ａｕｔｈｅｎｔｉｃａｔｉｏｎ　Ｔｅｓｔｓ　ａｎｄ　ｔｈｅ　Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ　ｏｆ　Ｂｕｎｄｌｅｓ［］Ｊ．２０００，ｌ１．　［７］　Ｆ　Ｊａｖｉｅｒ　ＴＨＡＹＥＲ　Ｆ　ａｂｒｅｇａ，Ｊｏｎａｔｈａｎ　Ｃ．Ｈｅｍｏｇ，ａｎｄ　Ｊｏｓｈｕａ　Ｄ．Ｇｕｔｔｍａｎ．Ｍｉｘｅｄ　ｓｔｒａｎｄ　ｓｐａｃｅｓ［Ａ］．Ｉｎ：Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ　ｏｆ　ｔｈｅ　１２ｔｈ　ＩＥＥＥ　Ｃｏｍｐｕ￣ｒ　Ｓｅｃｕｒｉｔｙ　Ｆｏｕｎｄａｔｉｏｎｓ　Ｗｏｒｋｓｈｏｐ［Ｃ］．ＩＥＥＥ　Ｃｏｍｐｕｔｅｒ　Ｓｏｃｉｅｔｙ　Ｐｒｅｓｓ，１９９９，６．　［８］Ｆ．Ｊａｖｉｅｒ　ＴＨＡＹＥＲ　Ｆ　ａｂｒｅｇａ，Ｊｏｎａｔｈａｎ　Ｃ．Ｈｅｒｚｏｇ，ａｎｄ　Ｊｏｓｈｕａ　Ｄ．Ｇｕｔｔｍａｎ．Ｓｔｒａｎｄ　ｓｐａｃｅｓ：Ｐｒｏｖｉｎｇ　ｓｅｃｕｒｉｔｙ　ｐｒｏｔｏｃｏｌｓ　ｃｏｒｒｅｃｔ［Ｊ］．　Ｊｏｕｍａｌ　ｏｆ　Ｃｏｍｐｕ￣ｒ　Ｓｅｃｕｒｉｔｙ，１９９９，７（２／３）：１９１－２３０．　［９］　卿斯汉．安全协议的设计与逻辑分析［Ｊ】．软件学报，２００３，１４（７）：１３００—１３０９．　［１０］　范红，冯登国．安全协议理论与方法【Ｍ】．北京：科学出版社，２００３．　．址　．址．址　．址．址．址　．址．址　．址　．址　．址　．址　（上接第８２６页）　（３）不同的等离子体，对薄膜界面粘结性能　的改善效果，因等离子体处理功率的不同而有较　明显的不同。当处理功率在０～６０　Ｗ时，在相同　的处理功率下，Ｏ　等离子体处理效果明显好于　Ｎ　等离子体处理效果，而当处理功率在６０～１００　Ｗ时，Ｏ　等离子体处理效果却明显地差于Ｎ　等　离子体处理效果。　参考文献：　［１］　周立新．聚四氟乙烯薄膜滤料及其在水泥工业中的应　用优势【Ｊ】．新世纪水泥导报，２０００，（４）：２８—２９．　［２］　王延熹．中国非织造过滤材料生产和应用现状与发展　［Ｊ】．产业用纺织品，２０００，（１１）：ｌ一３．　［３］　郑文明，蔡志杰，王海峰．覆膜滤料对特殊烟尘处理的　优势［Ｊ］．工业安全与环保，２００１，（１２）：７－９．　Ｔ。ｅｔ　ｏ１．Ｓｕｒｆａｃｅ　Ｍｏｄｉｉｆｃａｔｉｏｎ　ａｎｄ　Ｆｕｎｃｔｉｏｎａ１．　［４］　Ｋａｎｇ。Ｅ．ｉｚａｔｉｏｎ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏｅｔｈｙｌｅｎｅ　Ｆｉｌｍｓ　【Ｊ】．　Ｍａｃｒｏ．　ｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１９９６，２９（２１）：６８７２．　Ｐ，ｅｔ　ｏ１．Ｉｎｆｌｕｅｎｃｅ　ｏｆ　ｃｈｅｍｉｃａｌ　ａｎｄ　ｐｌａｓｍａ　ｔｒｅａｔ．　［５］　Ｂａｄｅｙ，Ｊ．ｍｅｎｔｓ　ｏｎ　ｔｈｅ　ａｄｈｅｓｉｖｅ　ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ　ｏｆ　ＰｒＦＥ　ｗｉｔｈ　ａｎ　ｅｐｏｘｙ　ｒｅｓｉｎ【Ｊ】．Ｉｎｔ．Ｊ．Ａｄｂｅｓ，１９９６，１６（３）：１７３．