专利名称：一种用于SAR子孔径成像的方位模糊抑制方法专利类型：发明专利发明人：张玮,方华永
申请号：CN201510882971.8申请日：20151203公开号：CN106842196A公开日：20170613
摘要：本发明提供了一种用于SAR子孔径成像的方位模糊抑制方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：按照成像处理流程对原始回波数据进行距离向处理然后再沿方位向划分子孔径，其中对原始回波数据进行距离向处理具体为：进行距离向FFT；再进行距离压缩；进行距离向IFFT；去除脉冲持续时间点数；步骤2：数据处理完成后进行子孔径距离向处理，子孔径距离向处理的具体步骤为首先子孔径方位FFT；再进行数据两端进行补零，增加两端脉冲持续时间点数来实现扩展子孔径长度；进行距离向FFT；进行距离向逆压缩、三次相位滤波，参考点相位补偿；进行距离向IFFT；进行Chirp Scaling运算。
申请人：中国航空工业集团公司雷华电子技术研究所
地址：214063 江苏省无锡市梁溪路108号
国籍：CN
代理机构：中国航空专利中心
代理人：杜永保
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