专利名称：COMPOSITION HAVING PERMITIVITY BEING
RADIATION-SENSITIVELY CHANGEABLEAND METHOD FOR FORMING PERMITIVITYPATTERN
发明人：NISHIMURA, Isao,BESSHO, Nobuo,KUMANO,
Atsushi,YAMADA, Kenji
申请号：EP02755662.0申请日：20020725公开号：EP1413924A1公开日：20040428
摘要：Array
申请人：JSR Corporation
地址：2-11-24, Tsukiji, Chuo-ku Tokyo 305-0045 JP
国籍：JP
代理机构：Leson, Thomas Johannes Alois, Dipl.-Ing.
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