专利名称：微光刻掩模、确定其结构的像的边缘位置的方法及
系统
专利类型：发明专利发明人：D.黑尔韦格
申请号：CN201811281319.0申请日：20181025公开号：CN1097097A公开日：20190503
摘要：出于测量微光刻掩模(1)的结构(7)的目的，一种捕获在掩模(1)上的结构的绝对位置的方法和一种确定对将要成像的结构(7)的像的位置、或限定该结构的边缘的位置的取决于结构和/或取决于照明的贡献的方法彼此组合。因此，确立与晶片的曝光相关的边缘放置误差，因此可以实质上改进掩模(1)的特征。
申请人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
地址：德国上科亨
国籍：DE
代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：邱军
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