专利名称：封闭构件中的开口的方法专利类型：发明专利
发明人：Y·崔,G·C·穆基拉,S·C·科蒂林加姆申请号：CN201010248945.7申请日：20100729公开号：CN101987412A公开日：20110323
摘要：本发明涉及封闭构件中的开口的方法。具体而言，一种用于封闭构件(10)的表面(18)中的开口(14)的方法，以及通过该方法形成的构件。该方法必须在构件表面(18)中形成沟槽(22)使得沟槽至少部分地围绕构件表面处的开口(14)。合金然后淀积在沟槽中以在沟槽中形成无裂缝淀积物。然后加工与开口相交并且至少部分地形成在淀积物中的台阶体。该台阶体限定出至少部分地由淀积物的周边部分围绕并且具有凹入到构件表面中的表面的凹部(32)。盖帽(30)安放在凹部中并且焊接在淀积物的周边部分上，以限定出完全封闭开口(14)的焊接接头(20)。然后加工焊接接头(20)的表面以形成与构件表面基本上平齐的加工表面(36)。
申请人：通用电气公司
地址：美国纽约州
国籍：US
代理机构：中国专利代理(香港)有限公司
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