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切割具有硅穿通道的半导体晶圆的方法及其所形成的结构

来源:二三娱乐
(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(21)申请号 CN201310452834.1 (22)申请日 2013.09.27

(71)申请人 日月光半导体制造股份有限公司

地址 中国台湾高雄市楠梓加工出口区经三路26号

(10)申请公布号 CN103811458B

(43)申请公布日 2016.08.17

(72)发明人 花霈馨;张惠珊

(74)专利代理机构 上海专利商标事务所有限公司

代理人 陆勍

(51)Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

(54)发明名称

切割具有硅穿通道的半导体晶圆的方法及其所形成的结构

(57)摘要

本发明提供一种半导体元件、一种半

导体封装结构及一种半导体工艺。该半导体工艺包含以下步骤:(a)提供一半导体晶圆,该半导体晶圆具有一第一表面、一第二表面及一钝化层;(b)施加一第一激光于该钝化层以移除该钝化层的一部分且显露该半导体晶圆的一部分;(c)施加一第二激光,其中该第二激光穿过该半导体晶圆的该第二表面且聚焦于该半导体晶圆的一内部分;及(d)施加一横向力于该半导体晶圆。藉此,可确保切割品质。

法律状态

法律状态公告日

2014-05-21 2014-06-25 2016-08-17

公开

实质审查的生效 授权

法律状态信息

公开

法律状态

实质审查的生效 授权

权利要求说明书

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说明书

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